|
| |
Sputter Coater für die hochaufloesende Beschichtung mit Edelmetall oder oxidierenden Metallen
Die neuste und fortschrittlichste Generation
von Sputter Coater für die Hochauflösung und Aufdampfanlage mit
Turbomolekularpumpe auf dem Markt!
|
 |
Die Bedienung und Programmierung ist sehr einfach.
Informative Videos informieren Sie über Menüstruktur, Prozessinformation, Prozessablauf und Berechtigungen von Usern und Administrator. |
Videos:
Bedienung Teil 1 9:45 min
Bedienung Teil 2 9 :00 min
Kohlebeschichtung 6:20 min
Schichtdickenmonitor 5:40 min
Target & Kopfplattenwechsel 6:40 min |
Es handelt sich dabei um die Gerätebezeichnung Q150T. Das Gerät verfügt
über eine Turbomolekularpumpe mit Membranvorpumpe und ist in 3
Ausbaustufen erhältlich:
Q150T S Sputter Coater für die Hochauflösung
mit Zubehör und
Targetmaterialien
Option: Glimmentladung
Q150T E Aufdampfanlage für Kohlestab und Zubehör
Option: Kohlefaden und/oder Wolframkörbchen
Q150T ES Kombination Aufdampfanlage und Sputter
Coater und Zubehör
Option: Glimmentladung
Grundkonfiguration
Übersicht alle Sputter Coater
hier.
Sputter
Coater für große Proben, mit 3 Magnetronköpfen oder für sequenzielle
Beschichtung mit 2 verschiedenen Materialien ohne Vakuumbruch finden Sie
hier.
zum Anfang
|
Allgemeine
Spezifikationen
|
Q150T |
* Grundgerät erlaubt das Aufbringen
von hochauflösenden Schichten |
|
|
* Schnelltauschkopfplatten für verschiedene
Beschichtungsmaterialien mit
Selbsterkennung und automatische Programmumstellung.
Sputtertarget, Kohlefaden, Kohlestab (Æ 3.05 mm Standard),
Metallverdampfung |
|
|
* automatisch arbeitendes Ventil für Prozessgasmenge
(Einstellung über Prozessvakuum) |
|
|
* vollautomatischer Beschichtungsablauf für
reproduzierbare Schichten |
|
|
* farbiger Touchscreen für Eingabe von Parametern,
Speichern, Abrufen und Verändern von Programmen, Anzeige von
Prozessablauf und Prozessparametern |
|
|
* Einrichten und Verwalten von Nutzerrechten |
|
|
* großer Rezipient, Glasdurchmesser
Æ 165 mm / h 125 mm, Implosionsschutz |
|
|
* ausfahrbarer Galgen für Glasrezipient 214 mm h (hohes
Glas ist Option) |
|
|
* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm,
nicht kippbar,
„drop in“ für schnellen Wechsel ohne Werkzeug, Aufnahme für 6
Standardprobenteller.
Große Auswahl an optionalen Tischen. |
|
|
* 2 Gasanschlüsse (1 x Ar Prozessgas, 1 x N2
Spülung/Belüftung) |
|
|
* automatische Ventilsteuerung für
Prozessgas |
|
|
* integrierte digitale Zeitschaltuhr für reproduzierbare
Schichtdicken |
|
|
* Vacuum Shutdown, Rezipient kann bei Nichtgebrauch des
Gerätes evakuiert bleiben (verkürzt zukünftige Zykluszeiten) |
|
|
* Pirani Vakuummessröhre, Anzeige max. 5 x 10-4
mbar, danach „High Vacuum“ (”Full Range Gauge” Messröhre bei E & ES
Standard) |
|
|
* integrierte Turbomolekularpumpe, 70 l/s, luftgekühlt,
max. 5 x 10-5 mbar |
|
|
* Membranvorpumpe für öl-freies Vakuum, max. 4 mbar, 2.2
m3/h |
|
|
* Ethernet Netzwerkanschluss für Fernzugriff oder
Softwareupdates |
|
|
* Blindleistungskompensierung für geringeren
Stromverbrauch |
|
|
* inkl. etwas Verbrauchsmaterial, abhängig von
Konfiguration:
Cr Sputtertarget, Kohlefaden, Kohlestab oder Wolframkörbchen) |
|
|
* inkl. Vakuumschlauch, Prozessgasschlauch und
Verbindungsmaterial |
|
|
|
|
|
Maße: 585 mm b x 470 mm t x 410 mm h, mit extra hohem
Glas ca.
497 mm h, mit geöffneter Kopfplatte 650 mm h
Gewicht: 33 kg |
Die Beschichtungsanlage gibt es in 3 Varianten:
Q150T S Hochauflösender Sputter
Coater für Edelmetalle und oxidierende Materialien *1
Q150T E Aufdampfanlage für
Kohlenstoff (Kohlestab oder Kohlefaden) oder Metall *1
Q150T ES Kombination
Sputter Coater und Aufdampfanlage
*1 Gerät lässt sich
nachträglich zur Aufdampfanlage / Sputter Coater aufrüsten, muss dafür aber zum
Service.
Informationsvideo
über Bedienung:
Teil
1,
Teil 2 ,
Kohlebeschichtung ,
Schichtdickenmonitor
,
Target & Kopfplattenwechsel
Sputter Coater
|
Q150T S |
Sputter Coater
mit Turbomolekularpumpe für die Hochauflösung |
|
|
|
* hochauflösender Magnetronkopf mit Scheibentarget für
„kalte“ Beschichtung (10034) |
|
|
* Aufnahme für Scheibentargets, Æ 54 – 57 mm, 0.1 – 3 mm
dick |
|
|
* Beschichtung mit Edelmetallen oder oxidierenden
Metallen (Menüauswahl) |
|
|
* Sputterstrom max. 150 mA |
|
|
* Reinigungsstrom zum Entfernen der nichtleitenden
Oxidschicht,
Standard 150 mA, max. 200 mA |
|
|
* automatisch einschwenkende Blende beim Sputtern von
oxidierenden Materialien |
|
|
* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 60 Minuten,
ohne Vakuumbruch
Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen
ein.
Geeignet für extra dicke Schichten. |
|
|
* Pirani Vakuummessröhre, Messbereich bis max. 5 x 10-4
mbar
(”Full Range Gauge” Messröhre ist Option) |
|
|
* Vakuumfenster für Sputterprozess 5 x 10-1
bis 5 x 10-3 mbar |
|
|
* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm
|
|
|
inkl. Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial, Chromtarget Æ
57 x d 0.3 mm |
|
|
|
|
Achtung! |
Für den Betrieb benötigen Sie
eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm
Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit für Standardvergrößerungen 4.8, für
Hochauflösung 5.0.
Optional: N2-Flaschengas für Spülung &
Belüftung. |
| |
|
|
|
|
Q150T E |
Aufdampfanlage mit Turbomolekularpumpe für die
Hochauflösung |
|
|
|
* Kopfplatte Kohlefadenhalterung |
|
|
* „ripple free“ Stromversorgung (Gleichstrom)
|
|
|
* Puls- / Intervallverdampfung 0.2 – 3 s, einstellbare
Pause 10 – 30 s |
|
|
* Strompulse einstellbar,
max. 60 A für Kohlefaden
max. 95 A für Kohlestab
max. 120 A für Metallverdampfung |
|
|
* bis zu 5 Verdampfungszyklen ohne Vakuumbruch |
|
|
* variable Ausgaskontrolle der Verdampfungsquelle |
|
|
* automatische einschwenkende Blende beim Ausgasen der
Bedampfungsquelle |
|
|
* sanfte Belüftung, um Probenverwirbelung zu verhindern |
|
|
* Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im
Hochvakuumbereich (10428) *3 |
|
|
* Pump hold-Funktion, System wird für voreingestellte
Zeit abgepumpt bevor
Beschichtungsprozess beginnt, max. 24 Stunden |
|
|
* rotierender Probentisch (8 – 20 UPM), Standard Æ 50 mm
|
|
|
inkl. Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial, 1 Meter
Kohlefaden |
| |
|
|
Q150T ES Kombination Sputter Coater & Aufdampfanlage für Kohlefaden
|
Q150T ES |
Gerät für hochauflösende Sputter- oder Aufdampfschichten
|
|
|
|
Die Kopfplatten können für verschiedene Aufgaben in
Sekunden getauscht werden. Die intelligente Systemlogik erkennt
automatisch die entsprechende Kopfplatte und stellt auf das
entsprechende Auswahlmenü im Monitor um. |
|
|
Spezifikationen Sputter Coater: |
|
|
* hochauflösender Magnetronkopf mit Scheibentarget für
„kalte“ Beschichtung |
|
|
* Aufnahme für Scheibentargets, Æ 54 – 57 mm |
|
|
* Beschichtung mit Edelmetallen oder oxidierenden
Metallen (Menüauswahl) |
|
|
* Sputterstrom max. 150 mA |
|
|
* Sputterstrom zum Entfernen der nichtleitenden
Oxidschicht,
std. 150 mA, max. 200 mA |
|
|
* automatische einschwenkende Blende beim Sputtern von
oxidierenden Materialien |
|
|
* vorwählbare Sputterzeit, 5 Sekunden bis 60 Minuten,
ohne Vakuumbruch
Wenn mit hohem Sputterstrom gearbeitet wird legt das Gerät Zwangspausen
ein.
Geeignet für extra dicke Schichten. |
|
|
* Vakuumfenster für Sputterprozess 5 x 10-1
bis 5 x 10-3 mbar |
|
Achtung! |
Für den Betrieb benötigen Sie
eine Flasche Argon und einen 2-stufigen Druckminderer mit 4 mm
Schlauchtülle. Empfohlene Reinheit für Standardvergrößerungen 4.8, für
Hochauflösung 5.0.
Optional: N2-Flaschengas für Belüftung. |
|
|
Spezifikationen Aufdampfanlage für Kohlefaden |
|
|
*
Kopfplatte mit Kohlefadenhalterung |
|
|
* „ripple
free“ Stromversorgung (Gleichstrom) |
|
|
* Puls- /
Intervallverdampfung 0.2 – 3 s, einstellbare Pause 10 – 30 s |
|
|
* Strompulse einstellbar:
max. 60 A für Kohlefaden
max. 95 A für Kohlestab
max. 120 A für Metallverdampfung |
|
|
*
bis zu 5 Verdampfungszyklen ohne Vakuumbruch |
|
|
*
variable Ausgaskontrolle der Verdampfungsquelle |
|
|
* automatische einschwenkende Blende
beim Ausgasen der Bedampfungsquelle |
|
|
* sanfte Belüftung, um
Probenverwirbelung zu verhindern |
|
|
* Vakuummessröhre „full range“ für
Anzeige im Hochvakuumbereich (10428) |
|
|
* Pump hold-Funktion, System wird
für voreingestellte Zeit abgepumpt bevor
Beschichtungsprozess beginnt, max. 24 Stunden |
|
|
* rotierender Probentisch (8 – 20
UPM), Standard Æ 50 mm |
|
|
inkl. Vakuumschlauch, Verbindungsmaterial,
Chromtarget Æ 57 x d 0.3 mm,
1 Meter Kohlefaden
|
| |
|
|
Zubehör für Q150T
|
10837 |
Kopfplatte für Glimmentladung
„Glow-Discharge“, (nur Q150T S & ES) |
|
10453 |
Kopfplatte für Sputtertarget,
(nur Q150T S & ES) |
|
10455 |
Kopfplatte für Kohlefaden, ( nur
für Q150T E & ES) |
|
10879 |
Kopfplatte für Kohlestab Æ 3,05 mm,
( nur für Q150T E & ES) |
|
10457 |
Kopfplatte für Metallverdampfung, inkl. Halterung für
Verdampfung von unten nach oben, 10 Wolframkörbchen (A0754) und einem
Molybdänschiffchen
( nicht für Q150T S) |
|
10357 |
Probentisch
bis 90° kippbar, Aufnahme für 6 Standardprobenteller, Æ 50 mm |
|
10358 |
Probentisch mit Aufnahme für 2 Objektträger 75 mm l x 25
mm b |
|
10360 |
RotaCota, planetarischer Probentisch mit variabel
einstellbarem Kippwinkel,
Aufnahme für 6 Standardprobenteller, Æ 50 mm |
|
10458 |
Probentisch für 4“ Wafer inkl. Exzentergetriebe für
großflächige Beschichtung |
|
10454 |
Schichtdickenmonitor inkl. Oszillator, Kristallhalter und
Schwingquarz (1) |
|
|
Bei Kohlebeschichtung kann gewünschte
Schichtdicke nicht eingegeben und der Beschichtungsprozess dadurch
gesteuert werden.
Die aufgebrachte Schichtdicke wird nach Prozess angezeigt. |
|
C5460 |
5MHz Quarzkristalle (Ersatz), RC Schnitt, thermisch
belastbar, 1 Stück |
|
C5460-10 |
5MHz Quarzkristalle (Ersatz), RC Schnitt, thermisch
belastbar, 10 Stück |
|
10428 |
Vakuummessröhre „full range“ für Anzeige im
Hochvakuumbereich
(für Q150T E & Q150T ES in Grundausstattung) |
|
10068 |
Glasrezipient (Ersatz, 128 mm h x 165 mm Ø) |
|
10429 |
Extra hoher Glasrezipient (214 mm h x 165 mm Ø)
Empfohlen für größeren Abstand Verdampfungsquelle / Probenoberfläche. |
|
10422 |
Pumpstutzen für Vakuumschlauchanschluss, Winkel 90°,
drehbar, falls Abstellfläche nicht min. 55 cm tief ist. |
 |
Gängige
Targetmaterialien:
Gold, Gold-Palladium, Platin,
Platin-Palladium,
Silber,
Chrom,
Wolfram,
Kohlenstoff, Aluminium, Titan,
Eisen,
Iridium,
Kobalt,
Zinn,
Molybdän,
Magnesium,
Tantal,
Indiumzinnoxid
(In2O3)0.9·(SnO2)0.1,
Nickel,
Kupfer
Weitere Materialien sind möglich, probieren Sie es einfach aus. |
zum Anfang
|
(Bild) 
